热搜关键词：流体抛光机,磨粒流抛光设备,内孔抛光

精冲模具抛光前型腔粗糙度为Ra0.5-0.6μm，抛光单边去除量不得超过0.001-0.0015mm，要求抛光至Ra0.2μm或以下（镜面效果）。模具型腔呈齿轮结构，或不规则形状。

抛光工艺：磨粒流

使用高分子弹性软磨料，通过挤压运动，使弹性软磨料通过精冲模具型腔或待抛光面，精细研磨，达到镜面效果。

具体抛光过程可参考下图，因实际加工中，模具是被保护在工装内看不到磨料运动，所以用下图作为参考。

抛光效率及效果：

节拍：每件1分钟左右即可抛光完成（因模具底胚粗糙度较好，且要求去除量较低，所以不需要更长时间。如果底胚粗糙度比较差，可以再多抛1分多钟）。

关于精度保持：

1、通常待抛光面原始粗糙度越好，抛光至镜面后，去除量越小；

2、根据工件的材质、粗糙度等特性，选择适宜颗粒度的磨料；

3、通过调节抛光时间、压力、流速等参数，可控制抛光效果

当然，磨粒流工艺抛光精冲模具，不仅能抛光型腔模具，还可以抛光一些外表面。

使用磨粒流工艺对精冲模具型腔抛光，具有以下优点：

1、更均匀：磨粒流抛光工艺，采用软性磨料作为研磨介质，抛光效果均匀。而传统抛光方式，极有可能造成抛光不均的现象。

2、更精密：磨粒流抛光，可最大限度地保持工件原始公差，抛光后去除量不过1μ左右。

3、安全环保：斯曼克磨粒流工艺采用环保磨料进行物理研磨，磨料符合环保标准，不产生危险性气体、粉尘、化学溶液等，环保安全。